System zimnego promieniowania UV został stworzony specjalnie do użytku w procesach produkcji wrażliwej na temperaturę takich jak druk pojedynczych błon czy rękawów kurczliwych.

Zaawansowana Technologia Zimnego Lustra ACM umożliwia odfiltrowywanie ogromnej ilości zakłócającego promieniowania IR. System ACM posiada zintegrowane zimne lustro. Jego geometria i pokrycie znacząco zmniejszają proporcję promieniowania IR, które jest skierowane w stronę podłoża. Jeżeli porówna się suszarki UV wyposażone w ACM, z systemami bezpośredniego napromieniowywania UV, IR w przypadku systemu ACM jest zredukowane aż do 85%.

W zależności od materiału, oznacza to, że temperatura podłoża może być zmniejszona nawet do 65%. Wysoka intensywność UV, która jest równoważna z urządzeniem o promieniowaniu bezpośrednim, umożliwia osiągnięcie dużej prędkości produkcji w tym samym czasie.

Cechy systemu:

• długość łuku 100mm - 2600mm
• duża intensywność UV
• znacząca redukcja IR
• moc do 240 W/cm
• dostępna płynna regulacja mocy 20% - 100%
• wszystkie spektra standardowe, a także specjalne

• niska temperatura podłoża
• ogromny zakres materiałów może być zadrukowywany
• wysoki rejestr
• zwiększenie produktywności
• redukcja wydatku energii
• łatwa integracja
• niski koszt utrzymania

• może być używany z mocą do 17kW bez dodatkowego chłodzenia reflektorów wodą
• system migawkowy
• indywidualne długości łuków dobierane do rodzaju użytkowania
• chłodzenie powietrzem lub powietrzem/wodą